（来源：上观新闻）
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蒸镀过程中，发☎光材料只💶🇸🇬有一小部分通过F🇩🇯MM微孔沉🇧🇾中文不一卡的一二三四区积到基板上，大🇧🇱量材料被掩模版遮🈂挡或附着在腔体内🐫壁，利用率🧘♀️通常不足30%🇭🇲。开发者提供界🔩✏面截图或者部分代🇳🇪码，它就能直接在💅🎪现有的工作流🏦里产出🎠🍕产品概念🍾6️⃣图，前端设计稿或🦍是游戏视觉素👨👩👧👧材🧔。然而，过去🧜♂️负责调校2D N😫🇦🇼AND机🇸🇱台设备的🔪工程人员几乎已👵退休或⚱离职，或转向🇭🇷到3D🚰 NAND🌖技术量产，而现🤹♂️阶段NAND原🐺厂将重心投入👣中文不一卡的一二三四区于3D 🈴NAND研🥧🛒发，以争♋取AI👬伺服器应用👨👨👧的成长商机，在☯人力吃紧下📨，根本无法额外🦕👤负担2D N🌊🇸🇴AND技术支援❌🙊。
